光刻机跟成品率没关系。
上微28nm光刻机是小型光电设备，设备是不讲成品率的，出厂合格就是100%的成品合格。你说的成品率指的是芯片的成品率也就是芯片的良品率，那是说一块晶圆内最大可加工芯片数量和合格芯片数量的比值，这个和工艺制程在内光刻技术的熟练度无关，则是是用28nm光刻机，差别水平的芯片制造商成品率是差别的。但总而言之一句话，上微28nm光刻机和成品率没有关系。
3nm光刻机加工生产的3nm芯片也提升到物理极限，目前人类没有办法加工生产5nm光刻机，3nm光刻机还在临床实验当中，生产3nm光刻机还需一段路走，科技在持续进步，但1nm的光刻机会很难不是现实。但人类科技持续进步，实际其它先进材料，也许是能代替1nm光刻机的技术，我们期待一下吧
光刻机是半导体技术。光刻机是芯片制造中刻蚀环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。光刻机比较复杂信息系统集成、精密光学、精密的设备运动、精密物料数据传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。在整个芯片制造工艺中，全都每个工艺的实施，都都离不开光刻的技术。光刻都是制造芯片的最关键技术研发，他占芯片制造成本的35%以上。
资料不显示，asml旗下的高端euv光刻机，对付熟悉的操作员，1个小时能处理200片圆晶，考虑到到良品率，以及算正常工作时间影响不大，1天的产量在1000片左右，而这样一片圆晶，最少能出500块良品芯片。
也就是说，一台euv光刻机两天的产能在50万块芯片左右，要是常年无休加班费成产，这个可以生产1.8亿块，基本都能不满足华为对高端芯片的需求
能量产14纳米芯片。
2022年光刻机能加工生产14纳米芯片。目前我国芯片代工工厂最低也可以批量生产14纳米芯片，而技术上这个可以生产7纳米芯片，只不过目前良品率不高没能年底量产。而上海微电子去年28纳米光刻机早实际技术先检测和验证，该光刻机全部可以和阿斯麦尔光刻机一样制造出14纳米芯片。
